離子鍍是（shì）真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質（zhì）部分離化，在氣體離（lí）子（zǐ）或被蒸發物質（zhì）粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積在基片上（shàng）。離子鍍把（bǎ）輝光（guāng）放電現象、等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了（le）膜質量，而且還擴（kuò）大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等。多弧離子（zǐ）鍍與一般的離子鍍有著很大的區別。多（duō）弧離子鍍采用的（de）是弧光放電，而並（bìng）不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多（duō）弧離（lí）子鍍的原理就是把陰極靶作（zuò）為蒸發源，通過靶與陽極殼（ké）體之間的弧光放電，使（shǐ）靶材蒸發，從而（ér）在空間中形成等離子體，對基體進行沉積。

可以鍍（dù）製不鏽鋼、鉻、鈦、鎢等多種（zhǒng）金屬膜，也可鍍製合（hé）金膜或化合物，如TiN\TiAlN\CrN膜等,臥式多弧離子鍍膜機主要（yào）針對（duì）大麵積（jī）五金工件鍍裝飾膜或者（zhě）功能膜，適合（hé）於在不鏽鋼板、不鏽鋼管、不鏽（xiù）鋼門等工件表麵鍍膜。

1)、此類設備真空室最大尺寸能實（shí）現（xiàn） φ5000X10000MM（長）
2)、是（shì）在大型板材、管材上鍍製（zhì）各類裝飾膜層及功能膜膜層的適合設備（bèi）。