如何掌控真空（kōng）鍍膜的均勻（yún）性
我們先來認識下怎（zěn）麽調試鍍膜機，因（yīn）為掌握調試鍍膜機是使用（yòng）鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣（qì）情況與（yǔ）各真空泵的性能；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否達標，同（tóng）時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗（yàn）其他的性能，比如傳動、加熱、絕緣等等；
4、如果有工藝保證的話就繼續打樣並作測試（shì）。
5、所有的測試應作（zuò）記錄，並（bìng）有記錄人簽字以及有使用部（bù）門或（huò）工程部門的人確認簽字

怎麽掌控（kòng）真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的不（bú）同分為很多種類，僅僅因為都需（xū）要高真空度而（ér）擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻（yún）性的因素也不盡（jìn）相（xiàng）同。並且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺（chǐ）度和（hé）薄膜成分而有著（zhe）不（bú）同的意義，下麵分別說一下：

均勻性主要體現在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的（de）均勻性已經相當（dāng）好，可以輕鬆將粗糙度控（kòng）製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子鍍膜機的光學特性來（lái）說，真空鍍膜沒有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就（jiù）是說要實現10A甚至1A的表麵平整，是（shì）現在真（zhēn）空鍍膜中主（zhǔ）要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的原子組分（fèn）會由於尺度過小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而（ér）可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也（yě）是真（zhēn）空鍍膜的技術含量所在。
3、晶（jīng）格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單（dān）晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術（shù）中的熱點問題。 

下一個：沒有資料