CJHL係列磁控多弧真(zhēn)空鍍膜機

日(rì)期:2016-01-13 10:08:50 人(rén)氣:26394
CJHL係列磁控多弧真空鍍(dù)膜機

工作原理(lǐ)

CJHL係列多功能(néng)型真空鍍膜機中集成了多弧離子鍍膜與磁控濺射鍍膜兩種(zhǒng)沉積技術與一體化(huà),特別(bié)適用於鍍製多種金屬膜,也可以鍍多層膜、合金膜(mó)及化學物質,如鍍超硬耐磨損膜、防腐(fǔ)蝕膜、裝(zhuāng)飾膜(金、銀、黑、紅、藍、綠等顏色(sè))、結合磁控濺射技術可鍍製(zhì)多層複合膜,可以鍍製(zhì)不(bú)鏽鋼、鋁、鈦、鎢(wū)等多種金屬膜,也可鍍製如TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、金剛石膜(DLC)、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和複合膜(mó)層。

應用範圍

適用於五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝(yì)品等(děng),如手表、手機金屬殼、潔(jié)具、模具、電子產品、水晶玻璃(lí)、眼鏡框、餐(cān)具、刀具等(děng)。近年,電弧離子鍍膜技術得到了很(hěn)大的發展,從原來單一的小弧源發(fā)展到柱弧、大平(píng)麵(miàn)弧等。而且與中頻磁控濺射技術的結合(hé)使得設備的適用麵(miàn)更廣,比如在硬質塗層的(de)應用、更光潔細密的裝飾塗(tú)層的(de)應用等。

產品特點

1) 裝備低溫離(lí)子輔助源,無需加熱直接常溫冷鍍成膜,節能(néng)省(shěng)電,提高產能。
2)綜合了磁控鍍與多弧(hú)鍍的特點,覆(fù)蓋領域廣泛(fàn),能夠在(zài)各種材料上鍍製各類功能膜、裝飾膜和帶裝飾效果的功能膜。

技術參數表

CJHL係列磁控多弧(hú)真空鍍膜機
型號(hào)CJHL-600CJHL-800CJHL-1000CJHL-1200CJHL-1400CJHL-1500CJHL-1600
真空室尺寸 Φ600×800MMΦ800×1000MMΦ1000×1200MMΦ1200×1400MMΦ1400×1600MMΦ1500×1500MMΦ1600×1800MM
真(zhēn)空機組KT400擴(kuò)散泵機組KT500擴(kuò)散泵機組KT500擴散泵機組KT630擴散泵機組雙KT630擴(kuò)散泵機組雙KT630擴散(sàn)泵機(jī)組(zǔ)雙KT630擴散泵機組
鍍膜係統直流電源或中頻電源+多(duō)弧鍍膜電源、多功能孿生磁(cí)環弧(hú)靶+矩形平麵(miàn)靶+圓柱磁(cí)控多弧兩用靶(可選配)
輔助鍍膜係統低溫離(lí)子輔助源(除工具鍍外無需加溫係統)
充氣係統質量流量(liàng)計質(zhì)量流量計質量流量計質量流量計質(zhì)量流量計質量流(liú)量計質量流量計(jì)
控製方式手動或全自動手動或全自動手動或(huò)全自動手動或全自動手動或全自動手動或全(quán)自動手動或全自動
抽氣速率5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min5×10-3Pa﹤15min
極限真空5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa5X10-4Pa
備注以上設備參數(shù)僅做參考,具體均按客戶實際工藝要求設計訂做
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