磁控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日期：2020-06-08 9:18:10 人氣：17845
磁（cí）控濺射鍍膜設備是一種（zhǒng）具有結構簡單、電（diàn）器控製穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的（de）性能具有重要影響。
磁（cí）控濺射鍍膜技（jì）術在（zài）陶瓷表麵（miàn）裝飾（shì）中采用的工藝流程如下：
陶（táo）瓷片→超聲清洗→裝夾→抽本底真空（kōng）→plasma清洗→加熱→通氬氣→預（yù）濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍（dù）AF膜→破真空卸片→表麵檢驗→性能測（cè）試→包裝、入庫。
以（yǐ）上工藝技術是以磁控（kòng）濺射（shè）鍍膜設備為（wéi）基（jī）礎，選用合適的（de）靶材和（hé）濺射工藝（yì），製出超硬的耐磨鍍層，可以實現材料的高硬度、高耐磨、高耐劃傷特性；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設（shè）計出（chū）各層不同折射率（lǜ）材料（liào），可以調配出任意顏色，使得陶瓷不僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁控（kòng）濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠（gòu）實（shí）現對於陶瓷電子（zǐ）消費品（pǐn）的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強度和硬度的同時，也能夠提升其（qí）美觀性和藝術性，更好地滿足消費者的個性化需求。
微信掃一（yī）掃 關注浦元最新動態！
