微信掃一掃 關注浦元最新動態！真空卷繞鍍膜（mó）(卷對卷（juàn）)是在真空下應用不同（tóng）方法在柔性基體上實現連續鍍膜的（de）一種技術。它（tā）涵蓋真空（kōng）獲得、機電控製、高精傳動（dòng）和表麵分析等多方麵內容。其重點是，在保證鍍膜質量（liàng）前提（tí）下（xià）提高卷繞速（sù）率、控製鍍膜穩定性及（jí）實施在（zài）線監控（kòng）。卷對卷技術成本低、易操作、與柔性基（jī）底相容、生產率高及（jí）可連續鍍多層膜等優（yōu）點。第一台真空蒸發卷繞（rào）鍍膜機1935年製成，現可鍍幅（fú）寬由500 至2500mm。卷對卷技術應（yīng）用由包裝和裝飾用膜，近年（nián）逐漸擴大至激光（guāng）防偽（wěi）膜、導電等功能薄膜方麵，是（shì）未來柔性電子等行業的主流技術之（zhī）一。
目前，國際前沿是研究不同製備工藝（yì）下（xià）功能薄膜特性並完善（shàn）複合膜層製備（bèi）。卷繞鍍膜機有向大型工業化和小型科研化方向（xiàng）發展的兩種趨勢，國內蘭（lán）州真空設備、廣（guǎng）東中環真空設備等公司多生產大型工業卷繞設備， 國外如TW Graphics 和（hé）Intellivation 公司等，主要為（wéi）科（kē）研機構提（tí）供小（xiǎo）型或微型卷繞鍍膜機。
真空卷繞鍍膜設備分類
真空（kōng）卷對卷設備由抽真空、卷繞（rào）、鍍膜和電氣控製等係統組成。據真空室有無擋板，可分單室、雙室和多（duō）室結構。單室的收放卷輥和鍍膜（mó）輥（gǔn）在同（tóng）一室中，結（jié）構簡單但開卷時放氣（qì）會汙染真空（kōng）環境。雙室結構（gòu）將係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室（shì），卷輥與擋板間（jiān）隙約1.5mm，避免了類似開（kāi）卷放氣問題。多室（shì）常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免（miǎn）幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射靶間（jiān），板兩側塗覆50μm 的銅層。
分隔擋板與真空室壁狹（xiá）縫越（yuè）小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數，則可分為兩電機、三電機和四（sì）電機驅動係統。
總結與展望
真空卷（juàn）繞鍍膜因（yīn）其大麵積、低成本、連續性等（děng）特點，比間歇式鍍膜有很大（dà）優勢，廣受國內外研究者和（hé）企業關注。當（dāng）前卷（juàn）繞鍍膜技術進展較快（kuài），解決了鏤空線、白條、褶皺等問題，開始用於製備石墨烯（xī）、有機太陽能電池和透明導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜過程和成膜質量提出了更高要求，真空機組主泵選擇從大抽（chōu）速擴散泵（bèng）發（fā）展到無油超高（gāo）真（zhēn）空分子泵和低溫泵（bèng），開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜（mó）機以減小薄膜拉伸變形。張力控製（zhì）多用考慮夾感應張力的收卷模型和單跨非線性動力學的放卷模型。
目前卷繞鍍膜的（de）精密控製（zhì）有待提（tí）高，例如轉印石（shí）墨烯時（shí），難（nán）以徹底去除基底和石墨烯間（jiān）的（de）熱解膠，且卷繞速度過快或基底較硬引發的切應力會使石墨烯層（céng）形成裂縫（féng）或孔洞。又如（rú），真空卷繞發製（zhì）備的有機薄膜（mó）表麵缺陷多（duō），載流子遷移率較（jiào）低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來應增設薄膜（mó）應力等測控單元，融合CVD、離子鍍、高壓靜電紡絲、真空噴射和原位聚合等成膜技術，為開發（fā）新型有機及其無機複合功能薄（báo）膜和器件提（tí）供保障。