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真空電鍍(dù)設備膜厚的(de)不均勻問題

作者: 來源: 日(rì)期:2017-10-25 16:07:52 人(rén)氣:4815
無論監控儀精度怎樣,它也(yě)隻能控製真空室(shì)裏單點位置的膜厚,一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位置(zhì)的膜厚(hòu)不是絕對均勻的,那麽(me)遠離中心位置的基片就(jiù)無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽(bì)罩能消除表現為長期的不均勻性,但有(yǒu)些膜厚度的變化是由蒸發源的不穩定或(huò)膜材的不同表現而引起的,所(suǒ)以幾乎是(shì)不可能消除的,但對真空室的結構和蒸發源的恰當選擇可以使這些影響最小化。
  在過去幾年中,越來越多(duō)的用戶要求鍍膜係統製造(zào)廠家(jiā)提(tí)供高性能的小規格、簡便(biàn)型光學鍍(dù)膜係統,同(tóng)時,用戶對性能的要(yào)求不僅沒有降低,反而有所提高,特別是(shì)在薄膜密(mì)度和保證吸水後光譜變化最(zuì)小化等方麵。
  現在,係統的(de)平均尺寸規格已經在降低(dī),而應用小(xiǎo)規格設備進行光學鍍膜的生(shēng)產也已經轉變成為純技術問題。因此,選用現代化光學鍍膜係統的關鍵取決於對以下因素(sù)的認真(zhēn)考慮:對鍍膜(mó)產品的(de)預期性能,基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致(zhì)性工藝(yì)所必需的所有(yǒu)技術因素。
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