磁控濺射膜常見故障的排除

膜層灰暗及發黑

(1)真空度低於 0.67Pa。應將真空度提高到 0.13-0.4Pa。

(2)氬（yà）氣純度低（dī）於 99．9％。應（yīng）換用純度為 99．99％的（de）氬（yà）氣。

(3)充氣係統漏氣。應檢查充氣係統（tǒng），排除漏氣現象。

(4)底漆未（wèi）充分（fèn）固化。應適當延長（zhǎng）底漆的固化時間（jiān）。

(5)鍍件放氣量太大。應進行（háng）幹燥和封孔處理 膜層表麵光澤暗淡（dàn）

(1)底漆固化不（bú）良或變（biàn）質。應適當延長底漆的固化時間或更換底漆。

(2)濺射（shè）時間太（tài）長。應適當（dāng）縮短。

(3)濺射成膜速度太快（kuài）。應適當降低濺（jiàn）射電流或電壓

膜層色澤不均

(1)底漆噴塗得不均勻。應改進（jìn）底漆的（de）施塗方法。

(2)膜層太薄。應適當提高濺射速度（dù）或延長濺射（shè）時間。

(3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。

(4)鍍件的幾何形狀太複雜。應適當提高鍍件的旋（xuán）轉（zhuǎn）速度

膜（mó）層發皺（zhòu）、龜裂

(1)底漆噴塗得太（tài）厚。應控製在 7—lOtan 厚度範圍內。

(2)塗（tú）料（liào）的粘度（dù）太高。應適當降低。

(3)蒸發速度太快。應適當（dāng）減慢。

(4)膜層太厚。應適當（dāng）縮短濺射時間。

(5)鍍件（jiàn）溫度太高。應（yīng）適當縮短對鍍件的加溫時間

膜層表麵有水跡（jì）、指紋及灰粒

(1)鍍件清洗後（hòu）未充分幹燥。應加強鍍前（qián）處理。

(2)鍍件表麵濺上水珠（zhū）或唾（tuò）液。應加強文明生產，操作者應帶口（kǒu）罩。

(3)塗底漆後手接（jiē）觸過鍍件，表麵留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表麵。

(4)塗料中有顆（kē）粒物（wù）。應過濾（lǜ）塗料或更換塗料。

(5)靜電除塵失效或噴塗（tú）和固化（huà）環境中有顆粒灰塵。應更換除（chú）塵器，並保持（chí）工作環（huán）境的清潔

膜層附著力（lì）不良

(1)鍍件除油（yóu）脫脂不徹底（dǐ）。應加強鍍前處理。

(2)真空室內不清潔。應清洗（xǐ）真空室。值得注意（yì）的是，在裝靶（bǎ）和拆靶的過程中，嚴（yán）禁用手 或不幹淨的物體與磁控源接觸，以保證磁（cí）控源具有較高的清潔度，這是提高（gāo）膜（mó）層結合力的 要措施之一。

(3)夾具不清潔。應清洗夾具。

(4)底塗料選用不當。應更換塗料。

(5)濺（jiàn）射工藝條件控製（zhì）不當。應改進濺射工藝條件