真空鍍膜（mó）技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應（yīng）用於光學（xué）、電子學、能源開（kāi）發，理化儀器、建築機械、包（bāo）裝、民用製品（pǐn）、表麵科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要（yào）有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束（shù）外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表麵的物理、化（huà）學性能的話，這一技術又（yòu）是真空表（biǎo）麵（miàn）處理技術中的重要組成部（bù）分，其分類如表 6 所示。現就其（qí）幾個主要應（yīng）用方麵做（zuò）一簡單介紹。

        首先在（zài）光學方（fāng）麵，一塊光（guāng）學玻璃或石英表麵上鍍一層（céng）或幾層不同物質的薄膜後，即可成為高（gāo）反射或（huò）無反（fǎn）射（即增透膜（mó））或者（zhě）作任何預期比例的反射（shè）或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波（bō）長（zhǎng）的透射（shè）的濾色（sè）片。高反射膜（mó）從大口徑（jìng）的天文望遠鏡和各種激光器開（kāi）始、一直到新型建築（zhù）物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。增透膜則（zé）大量用於照（zhào）相和各種激光器開始、一直到（dào）新（xīn）型建築（zhù）物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜（mó）則大量用於照相機和電（diàn）視攝（shè）象機的鏡頭上。

        在電子學方麵真空鍍膜更占有極（jí）為重要的（de）地位。各種規模的繼承電（diàn）路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用（yòng）導電膜、絕緣膜和保護膜。作為製備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁（cí）盤、半導體激（jī）光器，約瑟夫遜器件、電荷耦（ǒu）合器件（ CCD ）也都甬道各種（zhǒng）薄膜。

        在顯示器件（jiàn）方麵（miàn），錄象磁頭、高密度錄象帶以及平麵顯示（shì）裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁（lǚ）襯等也都是采（cǎi）用真空鍍膜法（fǎ）製備。在元件方麵，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以製造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化矽、二氧化鈦（tài）等可以製造電容器，蒸發硒可以得到靜電複印機用的硒（xī）鼓、蒸發鈦酸鋇可以製造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用於製造超導膜和慣性約束巨變反應用的（de）微（wēi）珠鍍層。此外還可以對珠寶、鍾表外殼表麵、紡織（zhī）品金屬花紋、金絲銀絲線等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺（jiàn）射（shè）鍍或離子鍍對刀（dāo）具、模具等製造超硬膜。近兩年內所興（xìng）起的多弧離子鍍製備（bèi）鈦金製品，如不鏽鋼薄板、鏡麵板、包柱、扶手、高檔床托架、樓梯欄（lán）杆等目（mù）前（qián）正在（zài）盛行（háng）。